准确称取试样0.2000g，置于250mL锥形瓶中，加100mL浓度为6%的硫酸溶液，用0.0200mol/LKMnO₄标准溶液滴定，记录KMnO₄标准溶液消耗的体积为32.70mL．活性氧含量计算公式：Q%=（40cV/m）×100%[c：KMnO₄标准溶液浓度（mol/L）；V：消耗的KMnO₄标准溶液体积（L）；m：试样质量（g）]滴定终点的判断依据为．活性氧含量为．

为了测定产品中2Na₂CO₃•3H₂O₂的质量分数，设计了几种方案，涉及不同的反应原理．

方案一  将试样与MnO₂混合均匀，向混合物中滴加水，测生成气体的体积，进而进行计算．

方案二．

实验室制取时，将工业用氢氧化钙和甲醛依次加入到质量分数为30﹣70%的过氧化氢溶液中（投料物质的量之比依次为1：2：1.2），最终可得到质量分数98%以上且重金属含量极低的优质产品．

①过氧化氢比理论用量稍多，其目的是；

②反应温度最好控制在30﹣70℃之间，温度不易过高，其主要原因是；

③制备时在混合溶液中要加入微量硼酸钠抑制甲醛发生副反应外，还要加入少量的Na₂S溶液，加硫化钠的目的是；

④实验时需强力搅拌45min，其目的是；结束后需调节溶液的pH 7～8，其目的是．最后经结晶分离、干燥得产品．

请补充完整由碳酸钙制备甲酸钙的实验步骤

步骤1．称取13.6g甲酸钠溶于约20mL水，配成溶液待用，并称取研细的碳酸钙样品10g待用．

步骤2．；

步骤3．

步骤4．过滤后，将滤液与甲酸钠溶液混合，调整溶液pH 7～8，充分搅拌，所得溶液经蒸发浓缩、、洗涤、60℃时干燥得甲酸钙晶体．

一种用工业硅（含少量钾、钠、铁、铜的氧化物），已知硅的熔点是1420℃，高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅．一种合成氮化硅的工艺主要流程如图：

①净化N₂和H₂时，铜屑的作用是；硅胶的作用是；

②在氮化炉中3SiO₂（s）+2N₂（g）═Si₃N₄（s）△H=﹣727.5kJ/mol，开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度；体系中要通入适量的氢气是为了；

③X可能是（选填：“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”）．

①个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl₃遇水剧烈反应，写出该反应的化学方程式；

②假设每一轮次制备1mol纯硅，且生产过程中硅元素没有损失，反应Ⅰ中HCl的利 用率为90%，反应Ⅱ中H₂的利用率为93.75%．则在第二轮次的生产中，补充投入HCl和H₂的物质的量之比是．