| 用 SiHCl3 与过量 H2 反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：
①装置B中的试剂是 。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是。
②反应一段时间后，装置 D中观察到的现象是 ，装置 D不能采用普通玻璃管的原因是 ，装置D中发生反应的化学方程式为。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及。
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是。
A 碘水 B 氯水 C NaOH溶液 D KSCN溶液 E Na2SO3 溶液 | 